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高溫環(huán)境XRD是進行X射線分析的重要設備

更新時間:2021-08-20      點擊次數(shù):1444
  高溫環(huán)境XRD是進行X射線分析的重要設備,主要由X射線發(fā)生器、測角儀(測量角度2θ的裝置)、記錄儀(測量X射線強度的計數(shù)裝置)和水冷卻系統(tǒng)組成。新型的衍射儀還帶有條件輸入和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)。主要由高壓控制系統(tǒng)和X光管組成,它是產(chǎn)生X射線的裝置(產(chǎn)生X射線的裝置),由X光管發(fā)射出的X射線包括連續(xù)X射線光譜和特征X射線光譜,連續(xù)X射線光譜主要用于判斷晶體的對稱性和進行晶體定向的勞埃法,特征X射線用于進行晶體結構研究的旋轉單體法和進行物相鑒定的粉末法。
  高溫環(huán)境XRD使用:
 ?。?)當材料由多種結晶成分組成,需區(qū)分各成分所占比例,可使用XRD物相鑒定功能,分析各結晶相的比例。
  (2)很多材料的性能由結晶程度決定,可使用XRD結晶度分析,確定材料的結晶程度。
 ?。?)新材料開發(fā)需要充分了解材料的晶格參數(shù),使用XRD可快捷測試出點陣參數(shù),為新材料開發(fā)應用提供性能驗證指標。
 ?。?)產(chǎn)品在使用過程中出現(xiàn)斷裂、變形等失效現(xiàn)象,可能涉及微觀應力方面影響,使用XRD可以快捷測定微觀應力。
  (5)納米材料由于顆粒細小,極易形成團粒,采用通常的粒度分析儀往往會給出錯誤的數(shù)據(jù)。采用X射線衍射線線寬法(謝樂法)可以測定納米粒子的平均粒徑。
  高溫環(huán)境XRD通過對材料進行X射線衍射,分析其衍射圖譜,獲得材料的成分、材料內(nèi)部原子或分子的結構或形態(tài)等信息的研究手段。是研究物質的物相和晶體結構的主要方法。當某物質(晶體或非晶體)進行衍射分析時,該物質被X射線照射產(chǎn)生不同程度的衍射現(xiàn)象,物質組成、晶型、分子內(nèi)成鍵方式、分子的構型、構象等決定該物質產(chǎn)生衍射圖譜。

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